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2024年11月24日 星期日
苏大维格收关注函：要求核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造
苏大维格收到深交所关注函，要求补充披露公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况，并核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距，并进一步提示相关风险。
苏大维格昨天下午在投资者平台表示：“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”
这一消息也刺激该公司的股价走强，午后“20CM”涨停。
不过随后市场也提出“质疑”，苏大维格所指的光刻机并非大众所理解的芯片制造用光刻机。
苏大维格2023半年报中曾提及，“公司光刻设备已向国内某芯片龙头企业实现销售，并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品”，与今天在投资者平台的回复内容类似。不过，公司在互动平台的表述，“光刻设备”一词变成了“光刻机”，引发市场遐想。
苏大维格昨日成交额15.55亿元，换手率25.89%，盘后龙虎榜数据显示，深股通专用席位买入2765.91万元并卖出2953.24万元，中信证券北京呼家楼营业部净买入6236.74万元，三机构净卖出7267.14万元。
稍晚时候，苏大维格在互动平台表示，在大类上，光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV设备，好比“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技术工艺和材料难度极高；第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，好比“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。公司长期从事光刻机的研制，光刻机实现了从自用到销售给国内外科研院所，再到销售给相关企业的发展路径。目前，公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入；纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小；此外，公司也开发了投影扫描的光刻设备，拟应用于光伏电镀铜图形化领域，目前尚未实现销售。
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